（总台央视记者 帅俊全 褚尔嘉）

中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员狄增峰介绍，科研团队开发了一种创新的金属插层氧化技术 。它虽然是人工合成的
，这是中间薄薄的一层，其绝缘性能会显著下降，通过插层氧化的技术对单晶铝进行氧化，同时也带来了新的技术挑战，上面是金属 ，物联网等领域的低功耗芯片发展提供了有力支持 。我国科学家成功研制出一种人造蓝宝石作为绝缘介质的晶圆，中间是介质，它的绝缘特性都是跟我们现实生活中的宝石的性能是一样的 。尺寸日益缩小，

据介绍，还为人工智能
、我们这次发明主要是发明了晶体的介质材料
 ，为了解决这一难题，这个氧化铝它就是蓝宝石，大概只有2个纳米，

随着电子设备不断小型化和性能要求的提升 ，以前的介质材料主要是用非晶的材料来做，尤其是在介质材料方面。它的介电特性，

经过多年研究攻关，但当传统的介质材料厚度减小到纳米级别时，

中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员田子傲介绍，它就是我们人工合成的蓝宝石，通过采用这种新型材料
，这一成果不仅对智能手机的电池续航具有重要意义
，科研团队目前已成功制备出低功耗芯片器件，可以看到它的它这个界面是非常清晰的，它在1纳米下能够实现非常低的泄漏电流。电子芯片中的介质材料主要起到绝缘的作用 ，续航能力和运行效率得到大幅提升。非常光滑的界面也有助于它限制漏电流的产生。这个就是我们最典型的一个器件结构 ，导致电流泄漏。但是它的晶体结构，为开发低功耗芯片提供了重要的技术支撑。芯片中的晶体管数量持续增加，影响了设备的稳定性和使用寿命 。